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得到50nm范圍內(nèi)的研磨 
較小的研磨腔體和強(qiáng)大的輸入功率，同樣是很小粒徑的研磨介質(zhì)得到高強(qiáng)的運(yùn)動(dòng)，剪切。平均粒徑常在50nm以內(nèi)。 
使用0.1-0.8mm的研磨介質(zhì)
改進(jìn)設(shè)計(jì)的棒銷體系，使較小的鋯珠能夠高速運(yùn)轉(zhuǎn)，離心式分離系統(tǒng)，在使用較小鋯珠的同時(shí)，保持出料順暢，實(shí)現(xiàn)高流量。 
實(shí)現(xiàn)連續(xù)循環(huán)式研磨腔 
創(chuàng)建的直桶型密度室的研磨腔，根據(jù)選定的模式，定子和桶內(nèi)的距離，在7.5至13毫米范圍內(nèi)，轉(zhuǎn)子的運(yùn)動(dòng)使介質(zhì)保持徑向運(yùn)動(dòng)，對(duì)產(chǎn)品的剪切力不斷增加，缸體內(nèi)形成連續(xù)不斷的循環(huán)，短時(shí)間內(nèi)使粒徑達(dá)到要求。 
粉碎室的幾何狀設(shè)計(jì)，確保均勻的顆粒和分布。 
應(yīng)用于高純度，無(wú)污染的材料
對(duì)要求無(wú)污染的物料，研磨棒銷可使用氧化鋯，碳化鎢材料；研磨桶可使用碳化硅、聚氨酯材質(zhì)，出料器使用特殊的陶瓷材料。